间接光照明

在Eevee中，间接照明分为两个部分：漫反射和高光反射。两者都有不同的需求和代表性。为了提高效率，间接照明数据根据需要预先计算到静态照明缓存中。

到目前为止，光缓存是静态的，需要在渲染之前计算。它不能被每帧更新（除非通过脚本）。这个限制正在解决中，并会在将来的版本中移除。

只能查看独立照明。这就是为什么Reflection Planes（反光板）不存储在光缓存中的原因。

烘焙过程中使用的是当前活动视图层中的可见物体和集合。

需要多次烘焙来完成光线在场景中的反弹计算，并将上次烘焙结果合成。整体烘焙时间受反弹次数影响而倍增。

光线反弹只限于漫反射照明。

参考

面板:

渲染 ‣ 间接光照明

启用此选项将在更改探针时触发烘焙。调节探针物体时很有用。

漫射反弹

烘焙漫反射辐照度时光线的反弹次数。

立方体反射尺寸

立方体反射贴图的尺寸。

漫射遮蔽 (AO)

每个辐照度样本还存储一个阴影图, 用于尽可能地减少间接光泄漏。此参数定义此阴影贴图的大小。

辐射平滑

平滑辐照度插值，但引入光出血。辐照度能见度项可以使照明不在某些表面上平滑地插值。这减轻插值了权重。

钳制像素强度，以减少反射立方体内光泽反射的噪点（0为禁用）。

过滤品质

在立方体贴图过滤期间增大采样以删除瑕疵。目前只对立方体贴图有效。

立方体反射尺寸

在3D视图中直接显示缓存中存在的反射立方体贴图。

辐射尺寸

在3D视图中显示在缓存中存在的辐照度样本。

Note

缓存数据显示仅适用于3D视图，并且仅当视图在材质预览或渲染模式下使用世界光照时才能看到。